| dc.contributor.advisor | Straňák, Vítězslav | |
| dc.contributor.author | Cifreund, David | |
| dc.date.accessioned | 2021-12-08T12:55:29Z | |
| dc.date.available | 2021-12-08T12:55:29Z | |
| dc.date.issued | 2017 | |
| dc.date.submitted | 2017-04-19 | |
| dc.identifier.uri | https://dspace.jcu.cz/handle/123456789/33893 | |
| dc.description.abstract | Bakalářská práce je zaměřena na dávkovací systém pro PECVD procesy v prostředí nízkoteplotního plazmatu. Klíčem úspěšných depozic je přesný a stabilní průtok prekurzoru do reaktoru, kde probíhají výboje různého druhu, využívané pro depozici tenkých vrstev.
V případě, že je příměsí prekurzoru kapalina, je potřeba ji smíchat s nosným plynem a výslednou směs převést kompletně do plynné fáze. Pro tyto účely byl vybrán vypařovací systém CEM značky Bronkhorst High-Tech B.V., složený z regulátoru průtoku pro plyn, regulátoru průtoku pro kapalinu, vypařovací jednotky a řídícího modulu pro jejich ovládání. Cílem práce je implementovat uvedený vypařovací systém do plazma chemického reaktoru, provést jeho kalibraci a testovací měření. | cze |
| dc.format | 47s. | |
| dc.format | 47s. | |
| dc.language.iso | cze | |
| dc.publisher | Jihočeská univerzita | cze |
| dc.rights | Bez omezení | |
| dc.subject | Fyzika plazmatu | cze |
| dc.subject | PECVD | cze |
| dc.subject | tekutina | cze |
| dc.subject | průtok | cze |
| dc.subject | vypařování | cze |
| dc.subject | CEM | cze |
| dc.subject | vakuum | cze |
| dc.subject | Plasma physics | eng |
| dc.subject | PECVD | eng |
| dc.subject | fluid | eng |
| dc.subject | flowrate | eng |
| dc.subject | evaporating | eng |
| dc.subject | CEM | eng |
| dc.subject | vacuum | eng |
| dc.title | Implementace vypařovacího systému pro depozice tenkých vrstev | cze |
| dc.title.alternative | Implementation of evaporating system for deposition of thin films | eng |
| dc.type | bakalářská práce | cze |
| dc.identifier.stag | 44649 | |
| dc.description.abstract-translated | This thesis focuses on gas dispensing for PECVD proceses in low temperature plasma. Key to succesful depositions is an accurate and stable flow rate of precursor to reactor, where discharges are used for depositions of thin films.
Liquid can be also an admixture of the precursor, but it has to be mixed with the carrier gas and finaly evaporated. For this purpose was chosen CEM evaporating system from Bronkhorst High-Tech B.V., which is composed of gas mass flow controller, liquid mass flow controller, evaporating device and control unit. Main goal of this thesis is to implement evaporating system to plasma chemical reactor, calibrate it and do measuring tests. | eng |
| dc.date.accepted | 2017-05-23 | |
| dc.description.department | Přírodovědecká fakulta | cze |
| dc.thesis.degree-discipline | Měřicí a výpočetní technika | cze |
| dc.thesis.degree-grantor | Jihočeská univerzita. Přírodovědecká fakulta | cze |
| dc.thesis.degree-name | Bc. | |
| dc.thesis.degree-program | Elektrotechnika a informatika | cze |
| dc.description.grade | Dokončená práce s úspěšnou obhajobou | cze |
| dc.contributor.referee | Poláková, Helena | |
